จุดเด่นของสินค้า | Key Features

✅ Ultra-Low Particle Control

ผ่านกระบวนการล้างและตรวจสอบคุณภาพเพื่อลดการปล่อยอนุภาค เหมาะกับ ISO Class 5

Engineered for extremely low particle emission in critical cleanroom areas.

✅ Ultra-Low Ionic Residue

ควบคุมค่า Na+, K+, Cl- และ Ionic Residue เหมาะกับ Wafer และ Microchip

Low ionic contamination for semiconductor and precision electronics.

✅ Powder-Free 100%

ไม่มีแป้ง ลดความเสี่ยงการปนเปื้อนในพื้นที่ควบคุม

Fully powder-free to maintain cleanroom integrity.

✅ Double Cleanroom Packaging

บรรจุแบบ 2 ชั้นในพื้นที่ควบคุม เพื่อลดความเสี่ยงระหว่างการขนส่ง

Double cleanroom bag packaging for enhanced contamination control.

✅ รองรับพื้นที่ ESD Control

สามารถเลือกสเปคที่สอดคล้องกับมาตรฐาน เช่น ANSI/ESD S20.20

Compatible with ESD-controlled manufacturing processes.

คุณสมบัติด้านกายภาพ (Physical Properties)

• ความยืดหยุ่นสูง (High Elongation)
  ช่วยให้สวมใส่ง่าย ลดการฉีกขาดระหว่างการใช้งาน
• Tensile Strength สูง
  ทนแรงดึงและแรงเสียดสี เหมาะกับงานประกอบละเอียด
• ความหนาสม่ำเสมอ (Uniform Thickness)
  ช่วยควบคุมคุณภาพและลดจุดอ่อนของเนื้อถุงมือ
• ปลายนิ้วแบบ Textured
  เพิ่มแรงยึดเกาะ ลดการลื่นหลุดของชิ้นงานขนาดเล็ก

เหมาะสำหรับอุตสาหกรรม | Recommended Applications

Semiconductor Manufacturing

ลด Defect บน Wafer และเพิ่ม Yield ในกระบวนการผลิต

Microelectronics & PCB Assembly

ควบคุมการปนเปื้อนในงานประกอบความละเอียดสูง

Optical & Precision Components

ป้องกันฝุ่นและไอออนที่กระทบต่อพื้นผิวเลนส์

Biotechnology & Advanced Laboratory

รองรับงานวิจัยที่ต้องการความสะอาดระดับสูงสุด