จุดเด่นสินค้า | Key Features

✅ ปลอกยาว 12 นิ้ว (Extended Cuff)

ลดช่องว่างระหว่างถุงมือกับชุดคลีนรูม เพิ่มความมั่นใจในการป้องกันการปนเปื้อน

Extended 12-inch cuff improves wrist and forearm coverage.

✅ Ultra-Low Particle Emission

เหมาะสำหรับพื้นที่ ISO Class 5 ที่ต้องการการควบคุมอนุภาคเข้มงวด

Engineered for extremely low particle release.

✅ Low Ionic Residue

ควบคุมค่า Na+, K+, Cl- เหมาะกับ Wafer และ Microchip

Low ionic contamination for semiconductor applications.

✅ Powder-Free 100%

ไม่มีแป้ง ลดความเสี่ยงการปนเปื้อนในกระบวนการผลิต

Fully powder-free to maintain cleanroom integrity.

✅ Double Cleanroom Packaging

บรรจุแบบ 2 ชั้นในพื้นที่ควบคุมอนุภาค

Double cleanroom packaging for contamination control.

✅ รองรับพื้นที่ควบคุมไฟฟ้าสถิต

สามารถเลือกสเปคที่สอดคล้องกับ ANSI/ESD S20.20

Compatible with ESD-controlled manufacturing environments.

Product Properties | คุณสมบัติเชิงลึก

1️⃣ Physical & Mechanical Properties

• High Tensile Strength ลดการฉีกขาด
• Elongation ≥ 500% (Typical Value)
• Textured Fingertips เพิ่มแรงยึดเกาะ

2️⃣ Cleanroom Compliance

• ผ่านกระบวนการ DI Water Washing
• Low Non-Volatile Residue (NVR)
• Ultra-Low Ionic Content

3️⃣ Chemical Resistance

• ทนสารเคมีทั่วไป
• ทนน้ำมันอุตสาหกรรม
• ลดการซึมผ่านของสารบางประเภท

เหมาะสำหรับอุตสาหกรรม

Semiconductor & Wafer Fab

ลด Defect เพิ่ม Yield ในกระบวนการผลิตขั้นสูง

Microelectronics & PCB Assembly

ควบคุมการปนเปื้อนในงานละเอียด

Optical & Precision Industry

ป้องกันฝุ่นและคราบที่กระทบพื้นผิวเลนส์

Advanced R&D Laboratory

รองรับงานวิจัยระดับสูง