
Nitrile Gloves 12” Class 100
ถุงมือไนไตร 12 นิ้ว สำหรับคลีนรูม ISO Class 5
Nitrile Gloves 12” Class 100 คือถุงมือไนไตรแบบปลอกยาว 12 นิ้ว สำหรับงานคลีนรูมที่ต้องการการควบคุมอนุภาคระดับสูง รองรับห้องสะอาด Class 100 หรือ ISO Class 5 ตามมาตรฐาน ISO 14644-1 ออกแบบเพื่อควบคุมทั้ง Particle Contamination, Ionic Residue และเพิ่มการป้องกันบริเวณข้อมือ–ปลายแขน เหมาะสำหรับกระบวนการผลิต Semiconductor, Microelectronics, Wafer Fabrication และอุตสาหกรรมความละเอียดสูง
Nitrile Gloves 12” Class 100 are extended cuff cleanroom gloves designed for ISO Class 5 environments, offering ultra-low particle generation and enhanced wrist protection.
จุดเด่นสินค้า | Key Features
✅ ปลอกยาว 12 นิ้ว (Extended Cuff)
ลดช่องว่างระหว่างถุงมือกับชุดคลีนรูม เพิ่มความมั่นใจในการป้องกันการปนเปื้อน
Extended 12-inch cuff improves wrist and forearm coverage.
✅ Ultra-Low Particle Emission
เหมาะสำหรับพื้นที่ ISO Class 5 ที่ต้องการการควบคุมอนุภาคเข้มงวด
Engineered for extremely low particle release.
✅ Low Ionic Residue
ควบคุมค่า Na+, K+, Cl- เหมาะกับ Wafer และ Microchip
Low ionic contamination for semiconductor applications.
✅ Powder-Free 100%
ไม่มีแป้ง ลดความเสี่ยงการปนเปื้อนในกระบวนการผลิต
Fully powder-free to maintain cleanroom integrity.
✅ Double Cleanroom Packaging
บรรจุแบบ 2 ชั้นในพื้นที่ควบคุมอนุภาค
Double cleanroom packaging for contamination control.
✅ รองรับพื้นที่ควบคุมไฟฟ้าสถิต
สามารถเลือกสเปคที่สอดคล้องกับ ANSI/ESD S20.20
Compatible with ESD-controlled manufacturing environments.
Product Properties | คุณสมบัติเชิงลึก
1️⃣ Physical & Mechanical Properties
- High Tensile Strength ลดการฉีกขาด
- Elongation ≥ 500% (Typical Value)
- Textured Fingertips เพิ่มแรงยึดเกาะ
2️⃣ Cleanroom Compliance
- ผ่านกระบวนการ DI Water Washing
- Low Non-Volatile Residue (NVR)
- Ultra-Low Ionic Content
3️⃣ Chemical Resistance
- ทนสารเคมีทั่วไป
- ทนน้ำมันอุตสาหกรรม
- ลดการซึมผ่านของสารบางประเภท
เหมาะสำหรับอุตสาหกรรม
Semiconductor & Wafer Fab
ลด Defect เพิ่ม Yield ในกระบวนการผลิตขั้นสูง
Microelectronics & PCB Assembly
ควบคุมการปนเปื้อนในงานละเอียด
Optical & Precision Industry
ป้องกันฝุ่นและคราบที่กระทบพื้นผิวเลนส์
Advanced R&D Laboratory
รองรับงานวิจัยระดับสูง


