ฟิล์มขัดละเอียดเคลือบซิลิคอนออกไซด์ (Silicon Oxide Lapping Film) – ความแม่นยำระดับไมครอนสำหรับอุตสาหกรรมขั้นสูง

ฟิล์มขัดละเอียดเคลือบซิลิคอนออกไซด์ (Silicon Oxide Lapping Film) คือแผ่นฟิล์มขัดที่เคลือบผงขัด Silicon Oxide (SiO₂) ลงบนแผ่นฟิล์มโพลีเอสเตอร์คุณภาพสูง ให้ความละเอียดและความเรียบผิวที่เหนือกว่า ใช้ในกระบวนการขัด (Lapping) และปรับผิว (Polishing) ที่ต้องการความเที่ยงตรงระดับไมครอน เหมาะกับงานในอุตสาหกรรม อิเล็กทรอนิกส์, ออปติกส์, เซมิคอนดักเตอร์, เครื่องมือแพทย์ และงานต้นแบบความละเอียดสูง

คุณสมบัติเฉพาะทาง: การขัดที่นุ่มนวลแต่แม่นยำ (Soft Polishing)

อนุภาคขนาดนาโน (Nanometer-Sized Particles): อนุภาค SiO₂

มีขนาดเล็กมาก โดยทั่วไปอยู่ที่ระดับ $0.01 μ m$ ถึง $0.5 μ m$ ทำให้สามารถขจัดรอยขีดข่วนระดับไมโครจากขั้นตอนก่อนหน้าได้อย่างสมบูรณ์แบบ และสร้างผิวสำเร็จที่มีความเงางามสูง

การขัดที่อ่อนโยน (Gentle Polishing Action): ซิลิคอนออกไซด์มีลักษณะการขัดที่ไม่รุนแรง (Low Aggressiveness) ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการขัดเงาวัสดุที่ต้องการความระมัดระวังเป็นพิเศษ เช่น ซิลิคอน (Silicon), แก้วนำแสง, และวัสดุเซรามิกที่มีความเปราะบาง

ความสะอาดของกระบวนการ: เหมาะสำหรับกระบวนการขัดเงาแบบเปียก (Wet Polishing) เนื่องจากอนุภาค SiO₂

มักถูกใช้ในรูปแบบของ Colloidal Slurry ซึ่งเมื่อถูกเคลือบบนฟิล์ม จะช่วยให้การขจัดวัสดุเป็นไปอย่างละเอียดและช่วยลดการปนเปื้อน

ฟิล์มขัดละเอียดเคลือบซิลิคอนออกไซด์ (Silicon Oxide Lapping Film) : ความละเอียดสูงสุดเพื่อการขัดเงาขั้นสุดท้าย

ฟิล์มขัดละเอียดเคลือบซิลิคอนออกไซด์ ( $SiO_{2}$ Lapping Film) คือสุดยอดของเทคโนโลยีการขัดเงาขั้นละเอียด (Final Polishing) โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับงานที่ต้องการความเงางามดุจกระจก และความเสียหายต่อพื้นผิว (Sub-surface damage) ต่ำที่สุด ด้วยอนุภาคซิลิคอนออกไซด์ (หรือที่รู้จักในชื่อ ซิลิกา, $SiO_{2}$ ) ขนาด นาโนเมตร ที่ผ่านการควบคุมอย่างเข้มงวด ทำให้ฟิล์มชนิดนี้มอบการขัดที่นุ่มนวลแต่มีประสิทธิภาพ

นี่คือโซลูชันที่ขาดไม่ได้สำหรับอุตสาหกรรมที่ต้องทำงานกับวัสดุที่มีความเปราะบางหรือต้องการความสมบูรณ์ของโครงสร้างพื้นผิวสูงสุด

Quick View

ฟิล์มขัดละเอียด (Lapping Film)

Silicon Oxide Lapping Film

Quick View

ฟิล์มขัดละเอียด (Lapping Film)

Silicon Oxide Lapping Film SO 0.01 Micron Transparent

การประยุกต์ใช้งานในอุตสาหกรรมขั้นสูง

เนื่องจากความสามารถในการสร้างผิวที่เรียบเนียนและปราศจากตำหนิในระดับนาโน ทำให้ ฟิล์ม $SiO_{2}$ Lapping เป็นหัวใจสำคัญของกระบวนการผลิต:

การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ (Semiconductor Manufacturing): ใช้ในการขัดเงาเวเฟอร์ซิลิคอน (Silicon Wafers) และกระบวนการ Chemical Mechanical Polishing (CMP) เพื่อให้ได้ความระนาบที่สมบูรณ์แบบสำหรับวงจรนาโน
ออปติกความเที่ยงตรงสูง (Precision Optics): สำหรับการขัดเลนส์และพื้นผิวแก้วที่ต้องการความสมบูรณ์ทางแสง (Optical Clarity) สูงสุด
งานขัดห้องปฏิบัติการ (Metallography/Lab Prep): ใช้ในการเตรียมผิวตัวอย่างโลหะและวัสดุขั้นสุดท้ายสำหรับการวิเคราะห์ด้วยกล้องจุลทรรศน์ (Microstructural Analysis)
การขัดเงาไฟเบอร์ออปติก: สำหรับคอนเน็กเตอร์ที่มีสเปคความละเอียดสูงเป็นพิเศษ

การใช้งานที่แนะนำ (Recommended Applications)

Optical Components: ขัดเลนส์ แผ่นกระจก และ Prisms ให้เรียบใส
Fiber Optics: ขัดหัวต่อไฟเบอร์ (Ferrule/Connector)
Semiconductor & Wafer Polishing: ปรับผิวซิลิคอน วัสดุเซรามิก และ Substrate
Precision Metal Parts: ขัดแม่พิมพ์และชิ้นส่วนโลหะละเอียด
Glass & Ceramic Surface Finishing: ใช้ในการตกแต่งพื้นผิวให้เรียบเนียน

ทำไมต้องเลือกซื้อกับ Baobao Thailand

ผู้จัดจำหน่าย ฟิล์มขัดละเอียดคุณภาพสูง ครบทุกชนิด (Diamond / Aluminum Oxide / Silicon Carbide / Silicon Oxide / Cerium Oxide)
สินค้า พร้อมส่งในประเทศไทย สำหรับงานเร่งด่วน
รองรับการขอเอกสาร COA, MSDS, Lot Traceability
ให้คำปรึกษาทางเทคนิคโดยผู้เชี่ยวชาญด้านกระบวนการขัด (Lapping & Polishing Process)
จัดส่งทั่วประเทศ พร้อมบริการออกใบเสนอราคาอย่างมืออาชีพ

ติดต่อสอบถามข้อมูล ขอใบเสนอราคา หรือสั่งซื้อออนไลน์ได้ที่